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1200度小型PECVD系統(tǒng)

更新時(shí)間: 2024-05-09

訪問次數(shù): 7539

產(chǎn)品報(bào)價(jià):

產(chǎn)品簡(jiǎn)介: PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G

詳細(xì)資料:

產(chǎn)品用途

PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

產(chǎn)品組成

PECVD系統(tǒng)配置;

1.1200度開啟式滑動(dòng)單溫區(qū)真空管式爐

2.等離子射頻電源

3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

4.真空系統(tǒng)(單獨(dú)購買)

產(chǎn)品特點(diǎn)

電源范圍廣;溫度范圍寬;濺射區(qū)域長(zhǎng);整管可調(diào);精致小巧,性價(jià)比高,可實(shí)現(xiàn)快速升降溫,是實(shí)驗(yàn)室生長(zhǎng)薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等的理想選擇,也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。

 

 

系統(tǒng)名稱

集成型PECVD系統(tǒng)

1200℃小型PECVD系統(tǒng)

系統(tǒng)型號(hào)

PECVD-12IH-500A

PECVD-12IH-4Z/G

控制方式

液晶屏微PLC控制系統(tǒng)

手動(dòng)

極限溫度

1200

加熱區(qū)長(zhǎng)度

200mm

恒溫區(qū)長(zhǎng)度

100mm

溫區(qū)

單溫區(qū)

石英管管徑

Φ60mm

Φ50mm

額定功率

1.2Kw

2Kw

額定電壓

220V

滑動(dòng)方式及距離

自動(dòng)滑動(dòng);200mm

手動(dòng)滑動(dòng);200mm

溫度控制

30段程序控溫

50段程序控溫

控制精度

±1

爐管極限工作溫度

1200

氣路法蘭

采用多環(huán)密封技術(shù)卡箍快速連接

排風(fēng)冷卻裝置

的空氣隔熱技術(shù),結(jié)合熱感應(yīng)技術(shù),當(dāng)爐體表面溫升到50℃時(shí),

排溫風(fēng)扇將自動(dòng)啟動(dòng),使?fàn)t體表面快速降溫。

氣體控制方式

質(zhì)量流量計(jì)(按鍵式)

氣路數(shù)量

2路(2-4路)

4路(可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量)

流量范圍

0-500sccm(標(biāo)準(zhǔn)毫升/分,可選配)氮?dú)鈽?biāo)定

精度

±1%F.S

響應(yīng)時(shí)間

1sec

工作溫度(流量計(jì))

20-120

工作壓力

進(jìn)氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力)

進(jìn)氣方式

采用防倒流設(shè)計(jì)

規(guī)格

中真空(集成型請(qǐng)單獨(dú)購買)

系統(tǒng)真空范圍

10Pa-100Pa

真空泵

雙級(jí)機(jī)械泵理論極限真空度3x10-1Pa,抽氣速率4L/S(選配:其他抽速真空泵),出氣口配有油污過濾器,額定電壓220V,功率0.55Kw

信號(hào)頻率

13.56MHz±0.005%

功率輸出范圍

0W-500W

0W-100W

大反射功率

350W

30W

射頻輸出接口

50Ω,N-type,temale

功率穩(wěn)定度

±0.1%

諧波分量

-50dbc

供電電壓

單相交流(187V-253V)頻率50/60HZ

整機(jī)功率

70%

屏幕顯示

正方向功率,匹配器電容位置,偏置電壓值

爐體外形尺寸

290×350×340mm

290×350×495mm

系統(tǒng)外形尺寸

420×1440×1100mm

530×2310×750mm

系統(tǒng)總重量

270Kg

 

 

 

 

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